It is used for the preparation of new thin film materials such as nano-scale single-layer and multi-layer functional films, hard films, metal films, semiconductor films, dielectric films, etc. It can be widely used in the scientific research and small-batch preparation of thin film materials in colleges and universities and scientific research institutes.

Main uses:
Used to prepare superconducting films, semiconductor films, ferroelectric films, superhard films, etc. Suitable for scientific research and small-batch preparation of thin film materials in colleges and universities and scientific research institutes.

1 set of sputtering vacuum chamber, vertical top opening structure, size not less than Ф300mm×300mm, all stainless steel structure, argon arc welding, electrochemical polishing of the surface, containing anti-fouling lining, can be baked to 100~150℃, the interface is sealed with metal gaskets or fluororubber rings, and there is a lighting system in the cavity。

Product Introduction: This equipment is mainly used for the preparation of various conductive films, semiconductor films, ferroelectric films, optical films, micro-nano devices, pre-treatment of electron microscope samples, etc., especially for evaporation of various refractory metal materials. Not only can be used for glass, silicon and other hard substrates, can also be used for PDMS, PTFE, PI and other flexible substrate coating.

Product Description: This equipment is a desktop-type quartz cavity single-target magnetron sputtering coating instrument, which can be used for the preparation of metal thin films. It has applications in the fields of electronics, optics, special ceramic preparation, etc., and can also be used for laboratory SEM sample preparation.

This product is a desktop type small evaporation coating instrument, which can provide a maximum coating current of 100A and a maximum evaporation temperature of 1800 ℃, which can meet the evaporation of various common metals and some non-metals. The vacuum chamber is made of high purity quartz, which has the advantages of easy observation of the coating process and easy cleaning. With the molecular pump group, the limit vacuum of 5x10-4Pa can be reached, which can effectively ensure the purity